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苏州超纯氨

简介:

金宏气体原厂自主生产的超纯氨应用于晶圆清洗、在CVD过程中生成氮化硅或氮化镓等薄膜。

   
 
  • A colorless,toxic,flammable,corrosive,liquefied gas.(一种无色,有毒,可燃,具腐蚀性的可液化气体)

     Formula(分子式)

    NH3

     

     Molecular weight(分子量):

    17.03g/mol

     

     Boiling point(沸点):

    -33.4

    28.1°F

     Melting point(熔点)

    -77.7

    107.9°F

     Vapor pressure(蒸汽压):

    888KPa21.1℃)

    129Psia(70°F)

     Specific volume(比容):

    1.41m3/kg(21.1,101.325KPa 

    22.6ft3/lb(70°F,14.696psia)

     Lower Flammable Limit(最低可燃性含量)

    15%

     

     Upper Flammable Limit(最高可燃性含量)

    30%

     

     Threshold Limit Value(人体的最高容许浓度):

    25ppm

     

     DOT Classification(DOT类别):

    2.2(Flammable Gas)(可燃性气体)

     DOT Lable(DOT标签):

    FLAMMABLE GAS(可燃性气体)

     

     

     7N超纯氨(Q/320507 LAS03-2011)

     项目名称

     超纯氨

     氨(NH3)纯度(体积分数)/10-2          

     99.99999

     氢(H2)含量(体积分数)/10-6          

     0.01

     +氩(O2+Ar)含量(体积分数)/10-6    

     0.01

     氮(N2)含量(体积分数)/10-6              

     0.01

     一氧化碳(CO)含量(体积分数)/10-6      

     0.01

     二氧化碳(CO2)含量(体积分数)/10-6     

     0.01

     烃(C1C3)含量(体积分数)/10-6         

     0.01

     水分(H2O)含量(体积分数)/10-6          

     0.05

     总杂质含量(体积分数)/10-6                 

     0.1

     

     

     包装

    容积

    重量

    连接阀门

     小钢瓶

    40L 44L 47L

    22Kg

    CGA660 DISS720

     Y

    440L

    230Kg

    DISS720(手动)DISS720(气动)

     T

    930L

    480Kg

    DISS720(手动)

     超纯氨是微电子氮化硅掩蔽膜的主要原材料,其反应为: 750—850℃ :SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2 ,850—900℃ :SiCl4+NH3---Si3N4+HCl+N2。虽然NH3在半导体制造用量不大,但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料,NH3的质量好坏直接决定发光二极管(LED)的亮度,它的价格高低左右着LED的经济性。发光二极管LED是继爱迪生发明电灯后,人类又一次照明工业的革命,发达国家(包括我国台湾省在内)为在此领域获得更大的主动权,纷纷成立国家照明工作委员会,LED现已产业化生产,台湾生产的LED已大量进入我国市场,为打破专利垄断,中国成立了照明工作领导办公室,中国将在2006年全面推广半导体照明,届时对NH3的需求将猛增。LED是利用超纯氨同三甲基镓(被称为MO源)反应,生成GaN半导体的,其反应为 650℃ Ga(CH3)3+NH3 ,GaN+CH4N2 发达国家光电子发展速猛,处于成熟期,因此,极大推动气体公司对氨提高纯度的研究,AP公司的Solkatronic chemicals 推出的NH3纯度达到6.4N,被称为“Blue Ammonia”。它是采用工业氨经吸附——精馏——深度化学净化等联合工艺,对氨进行净化。亚洲的日本昭合电工株式会社,有电子级氨对外出售,目前,我国许多LED生产用户所用的进口氨,基本上是普莱克斯、APCI和日本昭合电工。我国对氨净化、分析等的研究起步于80年代,当时为满足我国微电子工业的需要,光明化工研究设计院、北京氧气厂先后开展了电子级高纯氨的研究与生产,生产的产品满足了当时我国电子工业对氨的急需,进入2000年光明院又承担了国家十五“863”“超纯氨的研究与产业化生产”课题,在国家资金的资助下,经过系列的研究,克服了氨净化过程中的“马蹄型”效益,在原有的基础上,对氨净化技术,大规模生产技术,产品包装技术等诸多方面有突破性进展,现有100kg超纯氨包装容器20多支,往返生产与用户之间,整个生产线实现了自动化,产量达到500t/a,生产的产品三年来一直应用于LED生产线,是目前国内唯一真正用于LED大规模实用化生产流水线的氨生产厂,预计在今年年底,随着用户对MOCVD设备的再次扩大,国产氨用量将大规模攀升。

 
金宏气体
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